科大新技術助更平更快製晶片

香港文匯報訊 光刻機是用以製造半導體的重要設備，不過在運用中仍有不足之處，不利於晶片製作。為解決該難題，香港科技大學工學院研究團隊製造一個無掩模光刻原型機平台，成功研發一款全球首創的深紫外microLED顯示陣列晶元，以較低成本及更速效的方法推動半導體晶片生產的技術發展。

該研究由科大先進顯示與光電子技術國家重點實驗室創始主任郭海成指導，並與南方科技大學和中國科學院蘇州納米所合作。郭海成表示，近年來，低成本、高精度的無掩模光刻技術已成為半導體行業的新興研發熱點。團隊製作的microLED顯示陣列晶元成功實現多項關鍵性技術突破，能有效地將紫外光源和掩模版上的圖案融為一體，迅速地提供足夠的輻照劑量為光阻劑進行光學曝光，推進半導體生產技術發展。

科大電子及計算機工程學系博士後研究員馮鋒表示，本次研究團隊成功實現更小的器件尺寸、更低的驅動電壓、更高的外量子效率、更高的光功率密度、更大規模的陣列尺寸，以及更高的顯示解析度。這些都是關鍵的性能提升，各項指標均顯示，該研究的成果領先全球。