歸國博士創業破國外壟斷　研等離子體清洗設備實現100%國產化

我國在半導體產業鏈中的很多核心技術和產品還依賴國外進口。其中，在該產業起到關鍵作用的等離子體清洗設備，不僅受到國外壟斷，其大尺寸設備更是對國內禁售。現來自中國科學院合肥物質科學研究院的彭姣，在中國科學技術大學博士畢業後，赴德國進行了博士後研究工作，因看好國內清洗設備市場前景，回國帶領研究院多位博士組建科島科林團隊，自2021年開始對該設備進行國產化研發。

等離子體清洗設備是通過利用等離子體活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的，目前主要應用於半導體、新型顯示、新能源等行業。越是對工藝製程要求高的領域，對清洗的要求就越高。半導體領域中製程工藝每提高一個節點，清洗步驟就會增加約15%，20nm的芯片製程，清洗步驟多達220道。若清洗能力跟不上，設備出現細微顆粒、有機殘留物、氧化層等，就會導致產品的良率降低以及芯片電學失效等。

經過一年多的努力，目前，彭姣團隊已實現4款等離子體清洗設備的研發，產品國產化率達到100%，在大尺寸長壽命等離子體清洗設備方面，更率先實現了國內技術突破，打破了國外完全壟斷的格局。

記者：趙臣

拍攝：趙臣

剪輯：莉婭、胡臥龍、趙臣

（大公文匯全媒體供稿）